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精钢石钎焊炉

  • 所属分类 :
    管式炉
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  • 发布时间 : 2022-04-01
  • 详细介绍

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产品描述

PECVD1200等离子气相沉积炉是我公司在消化吸收国外同类产品的基础上,与北京大学东莞光电研究院共同研制开发的。广泛应用于薄膜生长等工艺。本设备是借助射频等使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子字体化学活性很强,很容易发生反应,在基片沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应。该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点。是高校、科研院所、工矿企业做等离子体增强CVD实验用的理想产品

产品特点

 1.通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态

2.PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低。

3.可以通过射频电源的频率来控制所沉积的薄膜的应力大小。

4.PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。

 

产品参数

 

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本文网址 : https://www.china-jule.com/product/87.html
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